最新包含具有氮化钼δ相的基于MoN的层的涂层的制作方法

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如下提供的最新包含具有氮化钼δ相的基于MoN的层的涂层的制作方法,以下是我给大家带来的内容。

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包含具有氮化钼δ相的基于MoN的层的涂层的制作方法
本发明涉及一种涂层及其制备方法,所述涂层包含至少一个基于Mo?N的硬质材料层,该硬质材料层至少大部分包含六方相氮化钼δ?MoN,其中两峰强度比(δ?MoN 220)/(δ?MoN 200)≥3,优选≥10,尤其优选≥30。
包含具有氮化结s相的基于MoN的层的涂层
[0001] 本发明设及一种包含至少一个氮化钢层的层体系,其中该层具有六方氮化钢的优 异滑动特性,同时也有2600HV~3700HV(维氏硬度)或者26-27G化和37-38G化(压痕硬度出T) 的"适当"硬度。
[0002] 本发明同样设及部件的表面处理方法,其中按照本发明涂覆部件的至少一个表 面,并优选随后借助于刷光法进行后处理,从而不仅在摩擦应用中实现改进的滑动特性,而 且实现减小的对应体磨损。 现有技术
[0003] 使用氮化钢层或者基于氮化钢的层作为部件的涂层是早已为人所知的现有技术。
[0004] 例如Ramm就在DE102010053751A1中公开了可W使用具有氮化钢层的层体系来涂 覆结构元件或滑动元件。该专利教导,通过使用氮化钢层涂覆部件表面,不仅能减小对钢的 摩擦系数,而且也能减少经涂覆的部件表面上的钢涂抹(Auf schmi erung )。文献 DE102010053751A1图4中的XRD衍射图表明,所公开的氮化钢层尤其具有立方结构,该结构 提示氮化钢丫相或C相。此外还指出运些层具有大约3000HV的层厚,并且借助于PVD电弧法 使用钢祀在反应性氮气气氛中沉积,其中使用450°C的涂覆溫度、3.5化的氮气压力和-20V 的基底负偏压。不仅测定了事后抛光的经涂覆的表面的摩擦系数,而且也测定了涂覆之后 未经受后处理的经涂覆的表面的摩擦系数。Ramm在DE102010053751A1中也推荐了由一氧化 钢或氮氧化钢构成并且用作涂层最顶层的另一个层。此外还指出,当例如借助于脉冲火花 蒸发和/或使用脉冲偏压来沉积氮化钢层时,能通过调节脉冲参数而良好调整氮化钢的各 相的生长。
[0005] tirgen等人在Su;rface and Coatings Technology 94-95( 1997)501-506中报道 了借助于PVD电弧蒸发钢祀在反应性氮气气氛中沉积的氮化钢层。通过改变氮气压力而产 生具有不同相的氮化钢层,其中将涂覆溫度保持为450~500°C并且使用-50V的基底负偏 压。tirgen报道了,通过使用0.4化或者0.8化的低氮气压力有利于形成氮化钢的立方丫相 (丫 -M02N),并且通过使用1.2Pa或者1.8Pa的较高氮气压力有利于形成氮化钢的六方S相 (S-MoN)。包含丫 -M02N的层具有30000N/mm2~36000N/mm2的硬度值,而包含S-MoN的层则具 有大约38000N/mm2和更高的硬度值。使用再抛光的氮化钢层的摩擦试验表明,氮含量较高 的氮化钢层具有更好的磨损性能、较低的摩擦系数并且减小的形成裂纹倾向。
[0006] Maier在DE102012207814A1中推荐了,使用保护涂层涂覆结构元件,尤其是滑动元 件,该保护涂层具有主要成分是钢和氮的主层,其中优选应将该主层设计为氮化钢层,应借 助于PVD电弧法将该保护涂层施加到结构元件上,并且应在层沉积之后通过精磨或/和研 磨、巧磨或/和抛光使主层平整。然而Maier没有公开将氮化钢层沉积为主层的涂覆参数。仅 仅提及主层可具有优选20~60原子%的氮含量。然而,优选25~40原子%的较低氮含量。尤 其最优选30~35原子%的氮含量。此外还提及主层的硬度优选应为1500~2200HV,W确保 结构元件的特别高的机械稳定性。Maier建议将低硬度和低氮含量的组合用于主层,据此可 W推断,至少基本上包含丫相(丫 -M02N)的氮化钢层作为主层最适合用于滑动元件的涂覆。 [0007] Kazmanli等人也在Su;rface and Coatings Technology 167(2003)77-82中报道 了借助于使钢祀在反应性氮气气氛中蒸发的PVD电弧法沉积氮化钢层。Kazmanli与Orgen 类似地教导了,基本上通过使用例如〇.8Pa或0.4化的低氮气压力有利于形成纯丫 -M02N,并 且通过使用例如1.9化的较高氮气压力有利于形成纯5-MoN。但是Kazmanli也报道了通过使 用例如1.2Pa或1.5化的中等氮气压力形成混合的丫相和S相。此外Kazmanli还指出,偏压和 基底溫度在沉积氮化钢层时可W起到重要作用。例如-250~-350V的很高的负偏压会导致 Mo离子的能量增加,运可能有利于形成丫相。相反,例如-50~-150V的低的负偏压则可能会 实现形成S相。Kazmanli还报道,在300~380°C的基底溫度下沉积的氮化钢层展示出形成5 相,而在410~510°C的较高基底溫度下沉积的氮化钢层展现出形成丫相和S相的混合物,其 中将IPa的氮气压力和-150° V的负偏压用于运两种变体的沉积。所研究的氮化钢层对于丫 相层的硬度值约为3372HV,对于S相层约为5085HV,对于混合的丫相和S相层约为4750HV。 [000引化nb巧化zar同样在Materials and Design 31 (2010)624-627中报道了借助于 电弧PV的去并且通过使用300°C的涂覆溫度、125A的电弧电流、0.4化的涂覆压力和-100V的 负偏压而沉积在柴油发动机零件上的氮化钢层。没有详细说明是否在涂覆过程中仅仅将氮 气或者含氮气的气体引入涂覆室之中。与Kazmanli相反,化nbey化zar报道了具有S相但是 层硬度为2000HV的氮化钢层,该硬度比Kazmanli报道的低得多。
[0009] 技术问题的说明
[0010] 根据W上援引的文献的教导,使用借助于电弧PVD沉积的氮化钢层涂覆滑动元件, 并且有利的是事后对经涂覆的表面进行抛光。
[0011] 然而没有清楚说明,仅仅或者主要具有丫-M02N的氮化钢层、仅仅或者主要具有S- MoN的氮化钢层或者不仅有r -M02N而且也有S-MoN的氮化钢层是否最适合于改进滑动特 性。
[0012] 同时也不清楚哪种相的哪种硬度值可真正实现并且是最合适的。
[0013] 同样也不清楚应将哪些参数用于沉积氮化钢的某一相或者相的某一混合物和某 一层硬度的预定组合。
[0014] 关于涂有氮化钢层的表面的再抛光,不清楚如何可使用一种抛光方法在工业上对 部件表面进行后处理。运主要是因为在工业生产中将此类方法用于后处理具有复杂形状的 经涂覆的部件,例如活塞销和活塞环是非常昂贵且复杂的。
[0015] 对于使用一种简单且较廉价的方法,例如在工业生产环境中可W很好用于对涂有 氮化钢的部件进行后处理的刷光方法,希望或者需要的是对氮化钢层可W很好地进行刷 光,并且更可能趋向于具有优选不高于3700HV的减小的硬度。
[0016] 反之,但是对于许多摩擦应用来说,也不希望层硬度太小。因此,氮化钢层的硬度 应尽可能等于或优选大于2600HV。
[0017] 本发明的目的
[0018] 本发明的目的在于提供一种氮化钢层及其制备方法,其中该层具有非常好的滑动 特性,同时具有优选不低于2600HV且不大于3700HV的"适当"层硬度。
[0019] 本发明的另一目的是提供一种后处理氮化钢层的经济方法。
[0020] 本发明的说明
[0021] 通过提供如权利要求1所述的涂层、如权利要求13所述的涂覆方法、如权利要求15 所述的后处理经涂覆的表面的刷光方法,实现本发明的目的。
[0022] 本发明设及一种涂层,其包含至少一个基于Mo-N的硬质材料层,该硬质材料层至 少大部分包含六方相氮化钢S-MoN,其中两峰强度比(S-MoN 220)/(S-M〇N 200)>3,优选> 10,尤其优选>30。
[0023] 优选将本发明的基于Mo-N的硬质材料层沉积作为所述涂层的最顶层。
[0024] 在某些应用中已发现,如果涂层仅仅包含一个或者多个基于Mo-N的硬质材料层, 可能是有利的。然而,硬质材料层体系也可W包含由其它材料制成的层,该层例如可W用作 粘附层、保护层或者其它类型的层。
[0025] 按照本发明的一个优选实施方案,基于Mo-N的硬质材料层优选基本上由氮化钢构 成。
[00%]按照本发明的另一个优选实施方案,基于Mo-N的硬质材料层具有2600~3700HV的 维氏硬度,或者27~38GI^的压痕硬度出T。
[0027] 按照本发明的另一个优选实施方案,基于Mo-N的硬质材料层具有-1~-9化的残余 应力或残余压应力。
[0028] 该残余应力优选为-2~-8化。
[0029] 按照本发明的还另一个优选实施方案,事后借助于刷光方法对基于Mo-N的硬质材 料层的表面进行后处理。基于Mo-N的硬质材料层的如此经后处理的表面优选具有W化kx< Rvkx为特征的表面粗糖度。
[0030] 优选借助于PVD技术制备本发明的涂层。
[0031] 优选在真空涂覆室中借助于电弧蒸发至少一个至少大部分包含钢的祀材在至少 大部分含氮气的气氛中,至少将本发明涂层的基于Mo-N的层沉积到基底表面上,其中至少 在基于Mo-N的硬质材料层的大部分沉积时间期间将涂覆溫度保持为低于300°C。
[0032] 在沉积基于Mo-N的硬质材料层时的涂覆溫度优选为《280°C,更优选《250°C,更 尤其优选《225 °C。
[0033] 在本发明中,术语涂覆溫度应理解为是指在沉积基于Mo-N的硬质材料层的过程中 待涂覆的基底的溫度。
[0034] 优选至少在基于Mo-N的硬质材料层的大部分沉积时间期间尽可能仅仅将氮气引 入涂覆室之中。涂覆气氛中最小量的其它气体(例如最小量的氣气、氯气、氧气、碳或者氨气 等)原则上不应是制备本发明层的问题。
[0035] 优选至少在基于Mo-N的硬质材料层的大部分沉积时间期间在待涂覆的基底上施 加负偏压。
[0036] 优选仅仅将基本上由钢构成的祀材用于沉积基于Mo-N的硬质材料层。
[0037] 令人惊奇的是,当使用根据本发明的涂覆方法时,就选择用于沉积本发明的基于 Mo-N的硬质材料层的工艺参数如氮气压力和偏压而言的工艺参数窗口相当大。
[0038] 根据W下附图和实施例详细解释本发明:
[0039] .图1所示为用于沉积本发明和非本发明的基于Mo-N的层的涂覆参数,其中本发 明的层至少大部分包含氮化钢的S相。
[0040] .图2所示为在恒定偏压下涂覆溫度和氮气压力对形成氮化钢的六方S相和立方 T相的影响(在本发明中,尤其在图2中,也是指C相,或者如果谈及T相,是指T相和C相的 混合物)。
[0041 ] ?图3所示为在恒定氮气压力下涂覆溫度和偏压对形成氮化钢的S相和丫相的影 响(在本发明中,尤其在图3中,也是指C相,或者如果谈及丫相,则是指丫相和C相的混合 物)。
[00创 ?图4所示为按照本发明实施例1沉积的Mo-N层的X畑衍射图(T2T使用1mm的光圈 和 GI)。
[00创 ?图5所示为按照本发明实施例2沉积的Mo-N层的XRD衍射图(T2T使用1mm和 0.2111111的光圈^及61)。
[0044] ?图6所示为按照本发明实施例3沉积的Mo-N层的X畑衍射图(T2T使用1mm的光圈 和 GI)。
[0045] ?图7所示不仅有按照本发明实施例1沉积的Mo-N层的邸D衍射图(T2T使用1mm的 光圈和GI)(下方),而且也有按照非本发明的实施例5沉积的Mo-N层的XRD衍射图(T2T使用 1mm的光圈和GI)(上方)。
[0046] ?图8所示为按照本发明制备的基于Mo-N的硬质材料层的粗糖度值Rz、化kx、化k 和Rvkx,其表面借助于刷光方法进行了不同的后处理。
[0047] 图9所示为在使用经涂覆的活塞销进行试验时测量的对应体磨损。不仅使用涂覆 之后未后处理的活塞销(Ox)、而且也使用涂覆之后经后处理的活塞销进行了试验。图9a所 示为使用Mo-N层涂覆活塞销的试验的结果。图9b所示为相同试验的结果,但是其中使用a- C:H型化C层涂覆活塞销。不仅对于图8中而且对于图9中所示的试验,如下后处理分别涂有 Mo-N(图8和图9a)和涂有DLC(图9b)的部件表面:
[004引 0 Ox:没有后处理,
[0049] 0 lxw:l次轻微刷光处理,
[(K)加]0 2xw: 2次轻微刷光处理,
[0化1] 0 3xw: 3次轻微刷光处理,
[0化2] 0 4xw:4次轻微刷光处理,
[0化3] 0 lxn:l次强力刷光处理,
[0化4] 0 4xn:4次强力刷光处理。
[0055] 如果本发明中谈及形成氮化钢的丫相(丫-M02N),则所指的应是形成氮化钢的立 方相,即形成丫相或C相,或者甚至形成丫和C的两种立方相的混合物。
[0056] C相a-MoN)与丫相一样也是氮化钢的立方相,但是与丫相(丫 -M02N)相比具有更 多的氮。氮含量在C相中甚至可W为超化学计量比的范围(N多于Mo)。在XRD衍射图中几乎无 法区别T相与C相,因为运两种相正如之前提及的一样是立方的。因此,只有当例如详细分 析化学组成时,才能较精确地确定形成运两种相之一。然而,如果层中存在多种相,则很难 精确确定丫相或C相。因此,在本发明的说明书中多次谈及丫-M02N,尽管其同样可能是C- MoN。由于目前存在的关于立方相氮化钢XRD衍射图的参考文献始终使用丫相运一名称,在 本发明中谈及丫相而不是简单谈及氮化钢的立方相,尽管其也可能是C相。
[0057] 图1所述为包括一些所选的沉积过程实施例的表,其中在实施例1~3中按照本发 明,在实施例4~6中非按照本发明沉积Mo-N硬质材料层。
[0058]使用W下设备和测量程序进行本发明中的XRD研究:
[0化9] X畑设备:
[0060]。铜阳极,
[0061 ] 0发电器电压:40kV
[0062] 。发电器电流:30mA
[0063] 0 1或者0.2mm的狭缝光圈(仅在实施例2的情况下为0.2mm,因为对于使用1mm的狭 缝光圈的测量,信号达到饱和)。
[0064] 测量程序目2目(T2T):
[00化]0 T2T范围:20-80。
[0066] 0 步距:0.02°
[0067] 0时间/步:1秒
[006引测量程序掠入射(GI):
[0069] 。入射角:2。
[0070] 0 T2T范围:20-80。
[0071] 0 步距:0.02°
[0072] 0时间/步:1秒。
[0073] 针对实施例和研究,在Oerlikon Balzers Coating AG公司的电弧设备中涂覆由 高速钢1.2842 90MnCrV8制成的试样、各种不同种类高速钢制成的滑动元件W及市面上常 见的活塞销(用于试验经涂覆和重新刷光的活塞销表面)。在所有实施例中借助于电弧PVD 法在氮气气氛中蒸发钢祀。通过控制涂覆室中的氮气流量,使得工艺压力或氮气压力保持 恒定。在待涂覆的基底上施加偏压。对所有工艺过程使用相同的电弧涂覆源和电弧电流值。 按照图1中的说明仅仅改变涂覆溫度、氮气压力和偏压。
[0074] 在实施例1、2和3中制备的按照本发明通过使用200°C+/-15°C的涂覆溫度沉积的 基于Mo-N的硬质材料层至少大部分包含氮化钢的S相。甚至如果使用1.5化的较低化压力 (与图1实施例1所述一样)或者使用-120V的高的负偏压(与图1实施例3所述一样),能确定 形成氮化钢的S相,正如从图4、5和6中相应的XRD衍射图获知一样。
[0075] 反之,按照实施例4、5和6使用300°C或更高的涂覆溫度制备的层的XRD衍射图显示 出立方结构,运表明形成了氮化钢的T相和/或C相(参见图7中按照实施例5(5)的基于Mo-N 的层的XRD衍射图)。
[0076] 在图7中明显看出分别来自本发明的基于Mo-N的硬质材料层(实施例1(1))与非本 发明的基于Mo-N的硬质材料层(实施例5(5))的两个所示XRD衍射图之间的区别。
[0077] 按照本发明,用于沉积基于Mo-N的硬质材料层的涂覆溫度优选为至少50°C,更优 选至少100°C,尤其优选至少150°C。
[0078] 此外发明人还发现,如果使用小于1.5Pa或小于6Pa的氮气压力和/或使用(绝对 值)小于-20V或(绝对值)大于-120V的负偏压,通过使用不高于200°C+/-5(rC的涂覆溫度甚 至能够制备本发明的Mo-N层。
[0079] 本发明的实施方案或者优选实施方案的进一步详细说明:
[0080] 按照本发明,优选使用-10~-150V的偏压。
[0081] 按照本发明,优选使用1~6Pa的氮气压力。
[0082] 与W上提及的一样,按照本发明制备的Mo-N层具有S相氮化钢的特征性六方结构。 按照本发明制备的层同时具有2600~3700HV的维氏硬度或者26~27GPa和37~38GPa的压 痕硬度出T。
[0083] 按照本发明的具有至少一个Mo-N层的涂层的一个优选实施方案,本发明的Mo-N层 具有300~SOOGPa,优选330~470GPa、更优选350~450G化的弹性模量。
[0084] 按照本发明涂层的还一个优选实施方案,本发明的Mo-N层具有-1~-9GPa,优选-2 ~-8GPa的残余压应力。
[0085] 按照本发明涂层的还一个优选实施方案,本发明的Mo-N层具有大于28GPa且小于 37G化的压痕硬度出T。
[0086] 发明人在摩擦试验时发现,维氏硬度为3000~3600HV或者压痕硬度Hit为30~ 36G化的本发明的Mo-N层特别适合于某些应用。
[0087] 例如发现,具有34~35PGa的出T硬度、31~32G化的屈服点W及350~450G化的弹性 模量的本发明的Mo-N层具有特别优异的滑动特性。
[0088] 如上所述,优选借助于刷光法后处理Mo-N层,W便达到非常合适的表面品质或表 面粗糖度,运对于需要良好滑动特性的摩擦应用来说尤其重要。
[0089] 由于从阴极(祀材)产生宏观颗粒(液滴或瓣射物),借助于阴极火花蒸发(电弧蒸 发或者电弧PVD)制备的层中/上的粗糖度增量非常显著。例如通过抛光、刷光或者微喷砂的 后处理并不在借助于阴极火花蒸发制备的所有层中展现出粗糖度的明显降低。其原因在 于,瓣射物W不同的稳定性嵌入层之中,因此可或多或少良好地后处理运些层。
[0090] 对于本发明的基于Mo-N的硬质材料层来说,通过刷光的后处理当然起到非常好的 作用。
[0091] 图8中所示就是运种情况,其中在通过刷光的不同后处理之前和之后,将大致相同 厚度的本发明的基于Mo-N的硬质材料层(在本发明中也简称Mo-N层或者本发明的Mo-N层) 的粗糖度进行比较。
[0092] 图9a中所示为CuSnS銷相对于按照本发明涂覆的活塞销运动时的对应体磨损。与 此相比,图9b中所示为经化C涂覆的活塞销的磨损曲线。在运两种情况下使用了之前所述的 不同刷光方法,即轻微(W)和强力(n)、一次或多次刷光。现在绝对令人惊奇的是,当相同的 后处理时,本发明的MoN层与相应经后处理的化C层相比表现出较少的对应体磨损。之所W 令人惊奇,因为Mo-N层的初始粗糖度由于瓣射物(液滴)的缘故高于化C层的粗糖度。运表 明,使用本发明推荐的工业刷光方法可有效去除运些瓣射物。
[0093] 发明人发现了,尤其为了使MoN达到小的化kx值,不太需要强力的刷光设置,运使 得后处理工艺变得更简单而且重现性更好。总而言之,本发明的Mo-N层可容易进行后处理, 并且显著降低对于峰值粗糖度特征性的化k、化kx值。
[0094] 与化kx值相比高的Rvkx值有利于形成油润滑囊,运些油润滑囊尤其在油量少的情 况下确保良好润滑。
[00巧]为了实现小的对应体磨损,应争取达到化kx<0.3皿,优选<0.2皿,更优选<0.15 皿。
[0096] 按照本发明的一个特别优选的实施方案,Mo-N层具有45~55原子%的氮含量。
[0097] 本发明的层中测量的氮含量与钢含量(原子% )之比几乎为50:50,其中在W钢祀 作为电弧PV的去中的阴极的情况下使用220A的电弧电流、200°C的涂覆溫度(=基底溫度)、- 20V的负偏压和3Pa的氮气压力。
[0098] 按照本发明的另一个实施方案,将粘附层沉积为待涂覆的基底和氮化钢层之间的 界面。就此,Cr或/和CrN层特别适合作为粘附层,其优选具有小于60nm的厚度,视应用而定 尤其优选10~50nm的厚度。
[0099] 按照本发明的方法的一个最优选实施方案,在氮气气氛中借助于电弧蒸发钢祀而 将按照本发明制备的Mo-师g质材料层沉积为涂层的最外层,并且事后借助于刷光法进行后 处理,直至达到化kx<Rvkx的表面粗糖度。

1. 包含至少一个基于Mo-N的硬质材料层的涂层,所述硬质材料层至少大部分包含六方 相氮化钼S-MoN,其特征在于,XRD衍射图中的两峰强度比(δ-ΜοΝ220)/(δ-ΜοΝ200)彡3。2. 根据权利要求1所述的涂层,其特征在于,所述基于Mo-N的硬质材料层基本上由氮化 钼构成。3. 根据上述权利要求中任一项所述的涂层,其特征在于,两峰强度比(δ-Μ〇Ν220)/(δ-Μ〇Ν200)彡10〇4. 根据权利要求3所述的涂层,其特征在于,两峰强度比(δ-ΜοΝ220)/ (δ-ΜοΝ200)多30。5. 根据上述权利要求中任一项所述的涂层,其特征在于,所述基于Mo-N的硬质材料层 具有2600HV~3700HV的维氏硬度或者27~38GPa的HIT硬度。6. 根据权利要求5所述的涂层,其特征在于,所述HIT硬度大于28GPa并且小于38GPa或 小于37GPa。7. 根据上述权利要求中任一项所述的涂层,其特征在于,所述基于Mo-N的硬质材料层 具有-lGPa~_9GPa的残余压应力。8. 根据权利要求7所述的涂层,其特征在于,所述残余压应力为-2GPa~-8GPa。9. 根据上述权利要求中任一项所述的涂层,其特征在于,所述基于Mo-N的硬质材料层 具有300GPa~500GPa、优选330GPa~470GPa、更优选350GPa~450GPa的弹性模量。10. 根据上述权利要求中任一项所述的涂层,其特征在于,所述基于Mo-N的硬质材料层 沉积作为所述涂层的最外层,并且至少在层表面的至少一个区域内具有满足Rpkx<R Vkx条 件的表面粗糙度,并且优选具有表面参数Rpkx<0.3μπι。11. 具有根据上述权利要求中任一项所述的涂层的基底,优选工具或者部件,更优选滑 动元件。12. 根据权利要求11所述的经涂覆的基底,其特征在于,在所述基底表面和基于Mo-N的 硬质材料层之间有至少一个中间层,所述中间层优选包括氮化铬或者由氮化铬构成。13. 用于沉积根据上述权利要求1~10中任一项所述的涂层的方法,其特征在于,借助 于电弧PVD法至少将基于Mo-N的硬质材料层沉积到待涂覆的基底表面上,其中使得至少一 个至少大部分包含钼的靶材,优选由钼构成的靶材在至少大部分含氮气的气氛中电弧蒸 发,并且至少在基于Mo-N的硬质材料层的大部分沉积时间期间,优选在氮化钼层的全部沉 积时间期间使用低于300°C,优选低于280°C,更优选低于200°C+/_50°C的涂覆温度。14. 根据权利要求13所述的方法,其特征在于,至少在氮化钼层的大部分沉积时间期 间,优选在氮化钼层的全部沉积时间期间在待涂覆的基底上施加负偏压。15. 用于产生根据权利要求10所述的涂层的方法,其中借助于刷光方法在最外面的基 于Mo-N的硬质材料层上达到Rpkx<Rvkx的预定表面粗糙度,这通过使用刷光方法对预先优 选借助于电弧PVD法沉积的基于Mo-N的硬质材料层进行后处理。
C23C14/06GK106062237SQ201480065249
2016年10月26日
2014年12月1日
J·拉姆, J·卡纳
欧瑞康表面解决方案股份公司,普费菲孔

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